Корпоративный блог компании
Схемы измерения деформаций аппаратураназад
Фольговые тензорезисторы изготовляют фотохимическим способом из тонкой фольги толщиной 3-10 мкм, что позволяет автоматизировать процесс массового производства TP и достаточно просто выполнять тензорешетки сложных форм для многоэлементных розеток, датчиков давления и сил.
Полупроводниковые тензорезисторы изготовляют из монокристаллов кремния и германия, реже из других полупроводников. Их практически не используют в исследованиях НДС конструкций, но успешно применяют в динамометрических устройствах в качестве преобразователей. Благодаря новой технологии выращивания полупроводников на подложке из кремния или сапфира, являющихся почти идеальными упругими элементами, созданы интегральные полупроводниковые тензорезисторы. Методом диффузии получают сверхминиатюрные мосты и полумосты, монолитно связанные с упругим элементом. На основе этой технологии выпускают, например, датчики давления для измерения давления крови непосредственно в сосудах.
Для измерения статических и квазистатических деформаций используют мостовые схемы с питанием на переменном или постоянном токе, позволяющие осуществлять схемную термокомпенсацию. В связи с широким внедрением микроэлектроники наиболее универсальными являются цепи на постоянном токе. Особенностью схемы на переменном токе является необходимость балансировки по активной и реактивной составляющим сопротивления, поскольку тензорезисторы, наклеенные на металл, и проводники имеют определенную емкость.
Измерительные мосты с усилителями на несущей частоте (от 2,5 кГц) реализованы в большом числе универсальных приборов.
Значительное развитие получили приборы с дискретным уравновешиванием, цифровым табло и кодированием информации для ввода в печатающие и обрабатывающие устройства. Применение импульсного разнополярного питания (прямоугольного вида) позволило повысить напряжение питания, т.е. при прочих равных условиях увеличить выходной сигнал. Быстродействие систем с испульсным питанием ограничивается частотой 20-200 Гц (квазистатические процессы) и определяется скоростью затухания переходного процесса в прямоугольном импульсе и установления і = const. Длительность импульса і составляет не менее 5-50 мкс.
Дата: 25 октября 2011
|